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      高純氬氣
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      遼寧潤蕎特種氣體有限公司

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      高純/特種氣體介紹

      2021-12-28 00:00:00

       近15年來,隨著更復雜、更密集的大規模和超大規模集成電路的生產,對高純氣體潔凈度的要求,已不亞于對純度和干燥度的要求,凡工藝氣體,無一不對其中的粒子提出限制。因此,對于高純氣體,純度、干燥度、潔凈度是三項重要的標度。由于高純度氣體的使用地點、性質、工況(如溫度、壓力等)都不完全一致,所以,如何確定高純氣體的“三度”(純度、干燥度、潔凈度),還沒有一個嚴格而明確的概念。    對于純度和干燥度的控制,我國CBJ73—84《潔凈廠房設計規范》中指出,“高純氣體系指純度大于或等于99.9995%,含水量小于5ppm氣體?!比毡景盐㈦娮由a中所采用的氣體,按其不同的品位,具體分為下列幾個不同的檔次:

      1.超 高純氣體    氣體中雜質總含量控制在1ppm以下,水份含量控制在0.2~1ppm。

      2.高純氣體    氣體中雜質總含量控制在5ppm以下,水份含量控制在3 ppm以內。

      3.潔凈氣體    氣體中雜質總含量控制在10 ppm以下,對水份含量未作嚴格規定。

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      上述規定,都未涉及潔凈度。我們知道集成電路的生產,幾乎都是在潔凈環境中進行,是防止塵埃粒子污染微電子產品所必 需的。所以,對潔凈的生產環境絕 不允許采用不潔凈的氣體來破壞,必 須使氣體的潔凈度與潔凈環境保持一致,根據相關資料以及近些年公司相關工程的經驗進行了一些歸納。

      一、高純/特種氣體的概念

      半導體集成電路制造所需要的高純氣體主要分為兩大類:

      1.普通氣體:也叫大宗氣體,主要有:H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。

      2.特種氣體:主要指各種摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入用氣體、刻蝕用氣體等。

      半導體制造用氣體按照使用時的危險性分類:

      1.可燃、助燃、易燃易爆氣體:H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、PH3 、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等

      2.有毒氣體:AsH3、PH3 、B2H6等

      3.助燃氣體:O2 、N2O、F2 、HF等

      4.窒息性氣體:N2 、He 、CO2、Ar等

      5.腐蝕性氣體:HCL 、PCL3 、POCL3 、HF、SiF4、CLF3等

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